测试步骤
根据空白版供应商推荐的显影时间建立显影工艺的初始Recipe,一般初始Recipe内容如下:
掩模版停在高位,冲洗显影喷嘴和蚀刻喷嘴(先喷药液5秒,然后喷水10秒)掩模版降至底部,转速设置100rpm,显影喷嘴喷水浸润掩模10秒。换句话说,显影的目的是将人眼不可见的潜影变成由银(对彩色感光材料来说,还有染料)所组成的影像。显影喷嘴切换到显影液,显影时间参考空白版供应商建议。完成显影后,显影喷嘴切换到水冲洗15秒。改用Top beam喷嘴冲水清洗掩模版,掩模版应上下移动以确保整个掩模版被冲洗干净。冲洗完成后,蚀刻喷嘴喷水冲洗10秒,然后切换到蚀刻液。蚀刻时间参考Etch to clea则试结果。完成蚀刻后,蚀刻喷嘴切换到水冲洗15秒。改用Top beam喷嘴冲洗掩模版。+完成冲洗后, 1000rpm旋转甩干。
在曝光显影工艺中,只有对以上各种公差配合完全掌握,才能简单可靠的做出合格产品。
曝光显影技术优势
1、解决3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷难题;
2、图形转印技术单层、多层套印精度高;
3、雾化喷涂确保厚度均一性,提高致密性,降低油墨厚度;
4、采用图形转印技术,良率较高;
5、4-6寸盖板单制程产能优势明显;
6、较薄的油墨利于贴合,提高制程整体良率
曝光显影整装线
1. 喷涂前清洗+等离子表面处理
虽然在前段已经过清洗,但喷涂前盖板表面的洁净度至关重要,故需再次进行清洗和表面处理。下图这款设备采用托盘装载方式清洗(5-6寸可装载15片同时加工)
2. 等离子表面处理
等离子处理技术是通过对盖板进行一定的物理化学改性,提高表面附着力,这里主要为了提升油墨的附着力,还能去除表面有机物,达到基材表面彻底洁净。
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